【8/31開催】溶媒脱水にも役立つアルコール脱水膜プロセスの開発と応用のご案内
溶媒脱水にも役立つアルコール脱水膜プロセスの開発と応用の開催についてご案内させていただきます。
たくさんのご参加をお待ちしております。
溶媒脱水にも役立つ
アルコール脱水膜プロセスの開発と応用
開催概要
◆日 時：平成30年8月31日(金) 10:00 ～ 17:10
◆場 所：東洋大学 白山キャンパス 6号館2階6216教室
http://www.toyo.ac.jp/site/access/access-hakusan.html
交通：都営地下鉄三田線「白山」駅から徒歩5分
都営地下鉄三田線「千石」駅から徒歩7分
東京メトロ南北線「本駒込」駅から徒歩5分 など
◆定 員：50名（先着順．定員になり次第申込受付を終了）
◆参 加 費 ：法人会員(維持会員・特別会員)・正会員：18,000円
学生会員： 5,000円 (※書籍は含まない)
同時入会：23,000円
会員外：28,000円
・書籍「ガス分離膜の基礎と応用」を含みます．
・参加費は前納にてお願いいたします．
・郵便振替（00100－9－21052 口座名 分離技術会）
・銀行振込（みずほ銀行：神田支店 普通預金 1010899 口座名 分離技術会）
◆申込締切：平成30年8月24日(金)
◆申込方法：申込用紙(PDF)に必要事項をご記入のうえ，事務局までFAXまたはE-mailにてお申込みください．
FAX: 044-935-2571
E-mail：jimu@sspej.gr.jp クリックするとメールフォームが開きます．
「溶媒脱水にも役立つアルコール脱水膜プロセスの開発と応用」と題して送信してください．
プログラム：
◆ 8月31日（金）-------------------------------------------------------------------------------
10:00～11:00 「溶剤脱水用ゼオライト分離膜の開発の現状と課題」
（早稲田大学） 松方 正彦 氏
11:00～12:00 「膜分離を用いた分離プロセスの省エネルギー化」
（産業技術総合研究所） 山木 雄大 氏・松田 圭悟 氏
ー 昼食（12:00～13:00）ー
13:00～14:00 「膜分離を用いた分離プロセスの省エネルギー化(仮題)」
（三菱ケミカルエンジニアリング株式会社） 山崎 幸一 氏
14:00～15:00 「分離膜用セラミック支持体の開発」
（株式会社ノリタケカンパニーリミテッド） 渡邉 裕和 氏
15:10～16:10 「NOK株式会社における炭素膜開発について」
（NOK株式会社） 山本 浩和 氏
16:10～17:10 「ポリイミド膜による有機蒸気の脱水(仮題)」
（宇部興産株式会社） 谷原 望 氏
※講演時間等は変更の可能性がございます